真空蒸馏
精铋中还含有的微量杂质，可分为易挥发性杂质与难挥发性杂质两类。易挥发性杂质可用真空加热法除去，难挥发性杂质可用真空蒸馏法除去。
真空过滤在垂直石英管内进行，在真空度为0.1333帕下，温度1000℃时加热4小时，使熔融金属在真空下通过2毫米窄孔，以除去表面的氧化膜，真空过滤后，可除去精铋中的锑。
经真空过滤的铋装在石英管内，温度控制在950～1050℃，真空度保持0.1333帕，进行真空蒸馏，在上述条件下铋的蒸气压为106.7～399.97帕，铋的蒸发率达85%，蒸馏时间2～6小肘。通过真空蒸馏，蒸馏残渣中富集了镍、钼，银、铜、锰等杂质，馏出物即为五九商纯铋，可用于半导体工业。
由于铅与铋的饱和蒸气压较接近，所以甩蒸馏法不能满足除铅要求。但是氯化铅的自由焓较氯化铋的自由焓更负，即铅的氯化物比铋的氯化物更稳定，所以常先采用氯化法除铅，再用真空蒸馏除去银等难挥发杂质。
降低熔融铋中氯化物的含量可采用氨气冲洗法，或采用氯化物真空蒸馏，将真空度控制在0.6666帕，温度650℃，此时BiCl3与PbCl2优先蒸发，而与金属铋分离。
